Imec et ASML ouvrent une ligne pilote pour les puces
Nouveau centre de lithographie à Veldhoven
Suite à la déclaration d'intention, le nouveau centre de lithographie d'Imec et d'ASML à Veldhoven a été inauguré. La ligne pilote devrait servir de catalyseur pour l'utilisation de la lithographie EUV High NA dans la production de masse, en stimulant le développement à un stade précoce.
Imec et ASML ont uni leurs forces et ont récemment ouvert un centre de lithographie commun à Veldhoven, axé sur les techniques EUV High NA. Le centre de recherche et d'innovation imec entame ainsi une collaboration à long terme avec ASML, connu pour être un fournisseur de premier plan de l'industrie des semi-conducteurs. Le laboratoire devrait permettre d'accéder au premier prototype de scanner EUV High NA (TWINSCAN EXE:5000) et aux instruments de mesure et de traitement correspondants.
L'ouverture du laboratoire devrait constituer une étape importante dans la préparation de la production à grande échelle de la technologie High NA EUV, qui devrait avoir lieu en 2025 ou 2026. En donnant accès au scanner aux principaux fabricants de puces logiques et de puces à mémoire, imec et ASML veulent les soutenir et les aider à partager les risques. Cela leur permettra de développer des cas d'utilisation privés avant que les scanners ne soient effectivement déployés en production. Ils ont également accès à l'écosystème plus large des fournisseurs de matériaux et d'équipements, ainsi qu'au programme High NA patterning de l'imec.
La préparation du scanner EUV de 0,55 NA et de l'infrastructure associée a nécessité des préparatifs intensifs, qui avaient déjà commencé en 2018. Pendant ce temps, ASML et Zeiss ont développé toutes sortes de solutions spécifiquement pour le scanner EUV High NA, tandis qu'imec a préparé l'écosystème. Tout ce travail a récemment déjà abouti aux premiers résultats remarquables, avec l'impression de lignes d'une densité de 10 nm sur ce que l'on appelle des MOR.
Le président-directeur général d'imec, Luc Van den Hove, est donc enthousiaste: "Le High NA EUV est le prochain jalon de la lithographie optique, avec la possibilité de créer des lignes ou des espaces métalliques d'un pas de 20 nm en une seule exposition. Cela devrait permettre la création des prochaines générations de puces DRAM. Il améliorera considérablement la vitesse de production et réduira sensiblement les émissions de CO2."
"Cette technologie devient donc un moteur essentiel pour faire entrer la loi de Moore dans l'ère de l'ångström. Nous pouvons maintenant tester ces capacités en situation réelle, avec le prototype de scanner EUV High NA. Pour imec et ses partenaires, le laboratoire sera une extension virtuelle de la salle blanche de 300 mm à Louvain, ce qui permettra d'améliorer encore l'écosystème de modelage et de pousser la résolution de l'EUV High NA jusqu'à la limite".
Christophe Fouquet, président et CEO d'ASML, a commenté comme suit: "Le nouveau laboratoire offre une opportunité unique aux clients, partenaires et fournisseurs de l'EUV d'accéder au système de développement du processus High NA EUV alors que leurs propres systèmes sont encore en cours de développement. Ce type d'interaction précoce avec l'écosystème est unique et peut accélérer de manière significative le processus d'apprentissage de cette technologie et sa mise en œuvre en production."
