Imec en ASML openen pilootlijn voor chips
Nieuw lithografiecentrum in Veldhoven
Na de intentieverklaring is nu het nieuwe lithografiecentrum van imec en ASML in Veldhoven geopend. De pilootlijn moet een katalysator zijn voor het gebruik van High NA EUV-lithografie binnen de massaproductie, door ontwikkeling in het vroege stadium te stimuleren.
Imec en ASML bundelen hun krachten en openden onlangs een gedeeld lithografiecentrum in Veldhoven, gefocust op High NA EUV-technieken. De onderzoeks- en innovatiehub imec gaat daarmee een langdurige samenwerking aan met ASML, die bekendstaat als voorname leverancier aan de semigeleider industrie. Het lab moet toegang bieden tot het eerste prototype van de High NA EUV scanner (TWINSCAN EXE:5000) en bijpassende proces- en meetinstrumenten.
De opening van het lab moet een mijlpaal zijn in het voorbereiden van High NA EUV voor productie op grote schaal, wat zou moeten gebeuren in 2025 of 2026. Door toonaangevende fabrikanten van logica- en geheugenchips toegang te geven tot de scanner, willen imec en ASML hen ondersteunen en mede de risico's delen. Zo kan men private use cases ontwikkelen, alvorens de scanners effectief in de productie worden ingezet. Ook is er toegang tot het bredere ecosysteem van leveranciers van materialen en apparatuur, evenals tot het High NA patterning programma van imec.
Voor het klaarmaken van de 0.55 NA EUV scanner en de bijbehorende infrastructuur waren intensieve voorbereidingen nodig, die reeds in 2018 gestart waren. Ondertussen ontwikkelden ASML en Zeiss allerlei oplossingen specifiek voor de High NA EUV scanner, terwijl imec het ecosysteem voorbereidde. Al dit werk resulteerde onlangs al in de eerste opmerkelijke resultaten, met het printen van lijnen met een dichtheid van 10 nm op zogenaamde MOR's.
De voorzitter en CEO van imec, Luc Van den Hove, is dan ook enthousiast: "High NA EUV is de volgende mijlpaal in optische lithografie, met het potentieel om metalen lijnen of ruimtes met een pitch van 20 nm in één enkele blootstelling te creëren. Dit moet de volgende generaties van DRAM-chips mogelijk maken. De productiesnelheid zal er aanzienlijk op vooruitgaan en CO2-emissies zullen aanzienlijk verminderd worden."
"De technologie wordt dus een cruciale stimulans om de Wet van Moore in het tijdperk van ångström te brengen. We kunnen deze mogelijkheden nu in het echt testen, met het prototype van de High NA EUV scanner. Voor imec en haar partners zal het lab een virtuele extensie zijn van de 300 mm cleanroom in Leuven, waardoor het mogelijk wordt om het patterning ecosysteem verder te verbeteren en de resolutie van High NA EUV tot het uiterste te drijven."
Christophe Fouquet, voorzitter en CEO van ASML, reageerde als volgt: "Het nieuwe lab biedt een unieke opportuniteit voor klanten, partners en leveranciers van EUV om toegang te krijgen tot het High NA EUV-systeem voor procesontwikkeling, terwijl hun eigen systemen nog in ontwikkeling zijn. Dit soort vroege interactie met het ecosysteem is uniek en kan het leerproces van deze technologie en de implementatie ervan in de productie aanzienlijk versnellen."
